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高重復性非接觸離線分光干涉式測厚儀

高重復性非接觸離線分光干涉式測厚儀
TOF-S 是一款桌面型離線分光干涉式厚度測量裝置，主要用于測量電子、光學用透明平滑薄膜和多層薄膜的厚度。
實現(xiàn)高重復性測量，精度可達±0.01微米以下（取決于被測物和測量條件）。
溫度穩(wěn)定性：受溫度變化影響小，適合在不同環(huán)境條件下使用。
非接觸式測量：采用分光干涉式原理，無需接觸被測物，減少對被測物的損傷。
可以從薄膜的一側進行測量，適合測量透明涂膜

  • 產品型號：TOF-S
  • 廠商性質：經銷商
  • 更新時間：2025-10-22
  • 訪  問  量：87
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詳細介紹

高重復性非接觸離線分光干涉式測厚儀
高重復性非接觸離線分光干涉式測厚儀

TOF-S 是一款桌面型離線分光干涉式厚度測量裝置，主要用于測量電子、光學用透明平滑薄膜和多層薄膜的厚度。以下是其特點和規(guī)格：

產品特點

  • 高精度測量：實現(xiàn)高重復性測量，精度可達±0.01微米以下（取決于被測物和測量條件）。
  • 溫度穩(wěn)定性：受溫度變化影響小，適合在不同環(huán)境條件下使用。
  • 非接觸式測量：采用分光干涉式原理，無需接觸被測物，減少對被測物的損傷。
  • 反射型測量：可以從薄膜的一側進行測量，適合測量透明涂層膜層的厚度（取決于測量條件）。
  • 適用范圍廣：適用于研究、檢查用的離線類型以及生產過程中使用的在線類型。

技術規(guī)格

  • 測量厚度范圍：
    • 薄物用：1～50微米
    • 厚物用：10～150微米
  • 測量長度范圍：50～5000毫米
  • 測量間距：1毫米及以上
  • 最小顯示值：0.001微米
  • 電源電壓：AC100V，50/60Hz
  • 使用溫度范圍：5～45℃（測量時溫度變化1℃以內）
  • 濕度范圍：35～80%（無冷凝）
  • 測量面積：φ0.6毫米
  • 測量間隙：約30毫米

適用場景

  • 電子和光學領域：適用于測量電子和光學用透明平滑薄膜、多層薄膜等。
  • 研發(fā)和質量控制：可用于研究和開發(fā)過程中的厚度測量，以及生產過程中的質量控制。


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